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抛光液又称化学机械研磨液，由纳米级研磨颗粒和高纯化学品组成，是化学机械抛光工艺历程中使用的主要化学质料。

抛光液在CMP手艺中至关主要，在抛光质料中价置魅占比约50%，其耗用量随着晶圆产量和CMP平展化工艺办法数增添而增添。

凭证应用的差别工艺环节，可以将抛光液分为硅/多晶硅抛光液，浅槽隔离（STI）抛光液，金属栅极抛光液，介电质料（二氧化硅、氮化硅）抛光液，钨抛光液，铜及铜阻挡层抛光液，以及用于三维集成的硅通孔（TSV）和混淆键合抛光液等。

抛光液特点为种类繁多，纵然是统一手艺节点凭证差别客户的工艺手艺要求也有差别配方，其主要质料包括纳米磨料、种种添加剂和超纯水。其中，纳米磨料是决议抛光液性能的要害质料，主要包括硅溶胶和氧化铈等品类，约占抛光液价值的三分之一。

得益于整个半导体行业及半导体质料的迅速增添，全球抛光液市场泛起快速增添态势。2021年全球抛光液市场规模18.9亿美元，同比增添13%，其中铜抛光液、钨抛光液和氧化物抛光液的市场规模占比最大，而钴抛光液和多晶硅抛光液则成为增添最快的抛光液品类。

近年中国抛光液市场增速显著高于全球市场，2025年海内抛光液市场有望占全球市场的25%，达40亿元，2022-2025年中国抛光液复合增添率达15%。

内容节选自大奖国际宣布的《中国抛光液行业市场调研与投资战略报告（2023版）》，若有需求，联系大奖国际010-67280121